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产品描述
金刚烷类：光刻胶与功能材料的坚固基石
应用领域背景
193nm浸没式光刻的核心材料，随着半导体工艺节点向7nm、5nm甚至更小制程进军，光刻技术从248nm（KrF）跨越到193nm（ArF）及其浸没式技术。这一跨越对光刻胶材料提出了革命性的挑战：传统的含苯环树脂在193nm波长下吸收过强，无法使用；而普通的脂环族树脂又缺乏足够的耐等离子体刻蚀能力。
金刚烷（Adamantane），这种具有类金刚石结构的笼状烃，完美解决了这一矛盾。它在193nm下高度透明，同时其刚性的笼状结构提供了极佳的耐热性和耐干法刻蚀性能（Dry-Etch Resistance）。因此，金刚烷类（甲基）丙烯酸酯单体成为了现代高端光刻胶配方中不可或缺的“骨架”材料。
功能化单体（Acrylates & Methacrylates）
这组产品是光刻胶树脂聚合的直接原料。
CAS 115372-36-6: 3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 (HAMA)
应用：这是目前ArF光刻胶中使用频率最高的单体之一。结合了甲基丙烯酸酯的高Tg特性和羟基的粘附特性，是配方工程师的首选平衡材料 。
CAS 115372-36-6: 3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 (HAMA)
我们的主要产品有光引发剂、紫外线吸收剂、水处理剂、农药中间体、其他化工原料六大系列百余个品种。我们的产品种类繁多，包括农药、除草剂、杀菌剂、杀螨剂、植物生长调节剂等农化产品。
产品描述
金刚烷类：光刻胶与功能材料的坚固基石
应用领域背景
193nm浸没式光刻的核心材料，随着半导体工艺节点向7nm、5nm甚至更小制程进军，光刻技术从248nm（KrF）跨越到193nm（ArF）及其浸没式技术。这一跨越对光刻胶材料提出了革命性的挑战：传统的含苯环树脂在193nm波长下吸收过强，无法使用；而普通的脂环族树脂又缺乏足够的耐等离子体刻蚀能力。
金刚烷（Adamantane），这种具有类金刚石结构的笼状烃，完美解决了这一矛盾。它在193nm下高度透明，同时其刚性的笼状结构提供了极佳的耐热性和耐干法刻蚀性能（Dry-Etch Resistance）。因此，金刚烷类（甲基）丙烯酸酯单体成为了现代高端光刻胶配方中不可或缺的“骨架”材料。
功能化单体（Acrylates & Methacrylates）
这组产品是光刻胶树脂聚合的直接原料。
CAS 115372-36-6: 3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 (HAMA)
应用：这是目前ArF光刻胶中使用频率最高的单体之一。结合了甲基丙烯酸酯的高Tg特性和羟基的粘附特性，是配方工程师的首选平衡材料 。
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